| 1. Identificação | ||||||||||
| Tipo de Referência | Tese ou Dissertação (Thesis) | |||||||||
| Site | mtc-m21d.sid.inpe.br | |||||||||
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S | |||||||||
| Identificador | 8JMKD3MGP3W34T/472QU58 | |||||||||
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m21d/2022/06.03.16.13 | |||||||||
| Última Atualização | 2022:08.26.11.09.58 (UTC) simone | |||||||||
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m21d/2022/06.03.16.13.19 | |||||||||
| Última Atualização dos Metadados | 2022:08.30.05.08.40 (UTC) administrator | |||||||||
| Chave Secundária | INPE-18596-TDI/3235 | |||||||||
| Chave de Citação | CapoteSánchez:2022:EsPrRe | |||||||||
| Título | Estudo das propriedades de recobrimentos de DLC a partir da variação de parâmetros de deposição da técnica PECVD modificada com cátodo adicional  | |||||||||
| Título Alternativo | Influence of the deposition parameters on the properties of a-C:H coatings deposited using a modified pulsed-DC PECVD technique with an additional cathode | |||||||||
| Curso | CMS-ETES-DIPGR-INPE-MCTI-GOV-BR | |||||||||
| Ano | 2022 | |||||||||
| Data | 2022-05-19 | |||||||||
| Data de Acesso | 05 maio 2024 | |||||||||
| Tipo da Tese | Dissertação (Mestrado em Ciência e Tecnologia de Materiais e Sensores) | |||||||||
| Tipo Secundário | TDI | |||||||||
| Número de Páginas | 92 | |||||||||
| Número de Arquivos | 1 | |||||||||
| Tamanho | 8859 KiB | |||||||||
| 2. Contextualização | ||||||||||
| Autor | Capote Sánchez, Ariel | |||||||||
| Banca | Trava-Airoldi, Vladimir Jesus (presidente/orientador) Barros, Joao Paulo Machado Bonetti, Luís Francisco | |||||||||
| Endereço de e-Mail | capotesanchezariel@gmail.com | |||||||||
| Universidade | Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) | |||||||||
| Cidade | São José dos Campos | |||||||||
| Histórico (UTC) | 2022-06-03 16:13:19 :: ariel.sanchez@inpe.br -> administrator :: 2022-06-03 23:23:09 :: administrator -> pubtc@inpe.br :: 2022-06-03 23:23:51 :: pubtc@inpe.br -> ariel.sanchez@inpe.br :: 2022-08-02 00:11:22 :: ariel.sanchez@inpe.br -> pubtc@inpe.br :: 2022-08-02 15:57:37 :: pubtc@inpe.br -> administrator :: 2022-08-25 14:00:47 :: administrator -> pubtc@inpe.br :: 2022-08-29 16:59:58 :: pubtc@inpe.br -> simone :: 2022-08-29 17:02:12 :: simone :: -> 2022 2022-08-29 17:02:37 :: simone -> administrator :: 2022 2022-08-30 05:08:40 :: administrator -> :: 2022 | |||||||||
| 3. Conteúdo e estrutura | ||||||||||
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz | |||||||||
| Estágio do Conteúdo | concluido | |||||||||
| Transferível | 1 | |||||||||
| Palavras-Chave | diamond-like carbon recobrimentos parâmetros de deposição PECVD cátodo adicional coatings deposition parameters additional cathode | |||||||||
| Resumo | Os recobrimentos de Diamond-like carbon (DLC) são amplamente utilizados devido às suas atraentes propriedades mecânicas, químicas, tribológicas e biológicas. Algumas características macroscópicas destes filmes como a dureza, o módulo de elasticidade, o coeficiente de atrito e a aderência interfacial, assim como as propriedades internas da microestrutura podem ser modificadas controlando os parâmetros de deposição. Foi utilizada uma técnica de deposição química na fase vapor assistida por plasma (PECVD), modificada com a incorporação de um cátodo adicional e uma fonte de corrente DC-pulsada. Esta inovadora técnica, desenvolvida pelo grupo DIMARE-INPE, tem se destacado por possibilitar o crescimento de filmes de DLC em uma pressão até cem vezes inferior que na técnica PECVD convencional, com um regime nulo ou quase-nulo de colisões moleculares e alta densidade no plasma devido ao confinamento de íons e elétrons. Neste trabalho, filmes de DLC foram crescidos em aço inoxidável AISI 316 e silício (100). As propriedades mecânicas, tribológicas, microestruturais e a aderência dos filmes foram estudadas em função da variação de alguns parâmetros de deposição, tais como a pressão, a tensão de polarização e a largura de pulso ou ciclo de trabalho da fonte DC. Os resultados indicam que foram obtidos filmes mais duros, com baixo coeficiente de atrito e com menores taxas de desgaste para as pressões de deposição mais baixas (0,1 Pa), atingindo uma dureza máxima de até 27 GPa. Além disso, filmes com melhor qualidade estrutural relativa e aderência interfacial com o substrato foram obtidos para tensões de polarização iguais ou inferiores a -800 V, para tensões mais altas foi evidenciado uma evolução grafítica na microestrutura dos filmes. Os resultados indicam que o uso da técnica PECVD DC-pulsada modificada com cátodo adicional permite a obtenção de filmes com excelentes propriedades, possibilitando ampliar suas aplicações mecânicas e tribológicas. ABSTRACT: Diamond-like carbon (DLC) coatings are widely used because of their attractive mechanical, chemical, tribological and biological properties. Some macroscopic characteristics of these films such as the hardness, elastic modulus, coefficient of friction and interfacial adhesion, as well as the internal properties of the microstructure, can be modified by controlling the deposition parameters. A plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique modified with the incorporation of an additional cathode and a DC-pulsed current power source was used. This innovative technique, developed by the DIMARE-INPE, has stood out for allowing the growth of DLC films at a pressure up to a hundred times lower than conventional PECVD technique, in a near non-collision regime and high plasma density due to ion and electron confinement. In this work, DLC films were grown on AISI 316 stainless steel and silicon (100). The mechanical, tribological, microstructural properties and adhesion of the films were studied as a function of some deposition parameters variation, such as pressure, bias-voltage and the DC source duty cycle. The results indicate that harder films were obtained, with a low coefficient of friction and with lower wear rates for the lowest deposition pressures (0.1 Pa), reaching a maximum hardness of up to 27 GPa. In addition, films with relative better structural quality and interfacial adhesion with the substrate were obtained for polarization voltages equal to or less than -800 V, for higher voltages a graphitic evolution in the microstructure of the films was evidenced. The results indicate that the use of the modified DC-pulsed PECVD technique with an additional cathode allows obtaining films with excellent properties, making it possible to expand their mechanical and tribological applications. | |||||||||
| Área | ETES | |||||||||
| Arranjo 1 | Projeto Memória 60... > CMS > Estudo das propriedades... | |||||||||
| Arranjo 2 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção a partir de 2021 > CGCE > Estudo das propriedades... | |||||||||
| Arranjo 3 | urlib.net > Fonds > Produção a partir de 2021 > CGIP > Estudo das propriedades... | |||||||||
| Conteúdo da Pasta doc | acessar | |||||||||
| Conteúdo da Pasta source |
| |||||||||
| Conteúdo da Pasta agreement |
| |||||||||
| 4. Condições de acesso e uso | ||||||||||
| URL dos dados | http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP3W34T/472QU58 | |||||||||
| URL dos dados zipados | http://urlib.net/zip/8JMKD3MGP3W34T/472QU58 | |||||||||
| Idioma | pt | |||||||||
| Arquivo Alvo | publicacao.pdf | |||||||||
| Grupo de Usuários | ariel.sanchez@inpe.br pubtc@inpe.br simone | |||||||||
| Visibilidade | shown | |||||||||
| Licença de Direitos Autorais | urlib.net/www/2012/11.12.15.10 | |||||||||
| Detentor dos Direitos | originalauthor yes | |||||||||
| Permissão de Leitura | allow from all | |||||||||
| Permissão de Atualização | não transferida | |||||||||
| 5. Fontes relacionadas | ||||||||||
| Repositório Espelho | urlib.net/www/2021/06.04.03.40.25 | |||||||||
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3F358GL 8JMKD3MGPCW/46KTFK8 8JMKD3MGPCW/46KUES5 | |||||||||
| Acervo Hospedeiro | urlib.net/www/2021/06.04.03.40 | |||||||||
| 6. Notas | ||||||||||
| Campos Vazios | academicdepartment affiliation archivingpolicy archivist callnumber contenttype copyholder creatorhistory descriptionlevel dissemination doi electronicmailaddress format group isbn issn label lineage mark nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress readergroup resumeid schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url versiontype | |||||||||